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DUV EUV 波長
(1)當半導體微影製程光源從使用193nm(DUV,Deepultraviolet)波長縮短至13.5nm(EUV,Extremeultraviolet)波長時,光阻釋氣即被視為汙染EUV光學元件的重要元兇之一。,,2021年12月21日—DUV和EUV最大的区别在光源方案。EUV的光源波长为13.5nm,但最先进DUV的光源波只有193...
全球瘋搶EUV 曝光機!究竟是摩爾定律的救命曙光
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2023年3月10日—極紫外光(Extremeultraviolet,EUV)是波長小於13.5奈米的光,使用EUV作為光源的曝光機,即為EUV曝光機。由於造價昂貴、製程繁複、貨源稀少 ...
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